이큐셀 기업정보 (반도체, 디스플레이 장비 관련주)

※ 본글은 이큐셀 사업보고서와 공개자료를 토대로 작성되었습니다.

 

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 1  이큐셀

회사이름	(주)이큐셀
영문명	EQUIPMENTS CELL CO.,LTD
공시회사명	이큐셀
종목코드	160600
대표자명	김성규
법인구분	코스닥시장
법인등록번호	124411-0067216
사업자등록번호	137-81-61860
주소	경기도 수원시 권선구 산업로155번길 187 (고색동)
홈페이지	www.sntek.com
IR홈페이지
전화번호	031-299-3888
팩스번호	312993889
업종명	반도체 및 디스플레이 제조용 기계 제조업
설립일	2004-06-30
결산월	06월

이큐셀은 중소기업기본법 제2조에 의한 요건과 기준을 충족하여 중소기업에 해당합니다.

주요 관계회사 현황

명칭	주요사업
Shenzhen Sntech Co., Ltd.	판매 및 서비스
(주)이노페이스	부품소재 생산 및 판매
(주)에스엔알메디케어	판매 및 도소매
(주)에스엔텍모빌리티	통신 및 전자부품

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 2  이큐셀 주요사업

이큐셀은 진공/플라즈마 기술, 반도체 후공정 기술, 초고정밀 Align 기술 및 특수 이송시스템 기술을 적용한 반도체, 디스플레이 및 에너지 산업 분야의 공정 장비 개발 및 제조 기업입니다.

1. 사업 내용

• 디스플레이, 반도체 및 에너지 산업 분야의 다양한 공정 장비를 제작해 납품.
• 실시간 공정 진단이 가능한 웨이퍼형태의 센서 시스템 반도체 공정 진단 개발 착수.

구분	제품명	품목 및 적용기술	제품설명
플라즈마 공정 장치	NPS (New Plasma System)	저온 물리기상증착(PVD) 기술	고투과/저저항 투명전극 저온박막증착장치
	(In line)Sputter	진공중에 플라즈마를 이용해 원자를 분출시켜 막을 형성하는 기술	진공·플라즈마를 이용하여 기판에 타겟의 물질을 증착하는 장치
모듈 장치	인라인 합착기 (Direct Bonder)	초정밀 스테이지 제어 기술, 인라인 형태의 진공 중 합착기술	디스플레이와 Cover Glass (터치센서)의 초정밀 Align 후, 진공중 합착하는 장치
이송 장치	OLED패널 이송장치	N2 환경 내 초대면적 OLED패널의 이송 기술, N2 기류제어, 파티클 제어, 고집적 기판 적재 기술	진공 및 N2 환경에서의 초대면적 OLED 패널을 이송/관리하는 장치
반도체 후공정	반도체칩코팅장비	스퍼터링 방식을 이용한 박막코팅기술	전기전자 소자로부터 발생되는 전자파 차단

 

 

3. 시장 규모 및 전망

• 디스플레이 산업을 중심으로 전ㆍ후방 연관효과가 큰 시스템 산업으로 기술개발의 선도에 따라 세계시장의 주도권이 결정되는 산업이며, 전체 설비투자에서 장비에 대한 투자 비중이 60%이상으로 대규모 생산설비가 필요한 산업.
• 투명디스플레이, 플렉시블 디스플레이, 스트레쳐블 디스플레이 등 다양한 형태의 디스플레이가 활용된 단말기기에 대한 소비자 니즈가 확대.

 

4. 특허 현황

특허명	출원일	등록일
자장 중 급속 열처리 장치	2004-11-09	2006-03-03
광학박막 증착 장치	2004-10-15	2006-09-22
플라즈마 세정 장치	2007-02-22	2008-03-21
대면적용 급속 열처리 장치	2008-07-23	2010-12-09
피처리물 히팅 기능을 구비한 바렐 및 이를 구비한 코팅장치	2008-08-22	2010-10-11
진공 공정용 반송장치 및 이를 구비한 진공장치	2008-10-13	2011-10-11
원통형 스퍼터링 캐소드	2009-04-17	2011-08-31
원통형 스퍼터링 캐소드	2009-12-03	2012-06-21
텍스처링 모듈 및 이를 구비한 태양전지 제조장치 및 이를 이용한 태양전지 제조방법	2009-12-16	2012-05-04
플라즈마 발생장치 및 이를 구비한 대기압 플라즈마 표면처리 장치	2009-12-22	2011-12-22
소자 또는 패턴의 박리방법	2010-03-31	2012-07-19
기판 온도 제어방법	2010-06-14	2012-05-15
기판이송장치	2010-07-30	2013-10-23
대형 진공 챔버	2010-09-20	2011-12-07
반도체 발광소자 및 그 제조방법	2010-12-17	2012-12-21
파동을 이용하는 건식 식각 장치	2011-02-28	2012-10-09
원통형 스퍼터링 캐소드 장치	2011-03-29	2013-08-14
기판 지지 장치	2011-05-16	2012-12-21
원통형 스퍼터링 캐소드	2011-06-30	2012-01-31
인라인 스퍼터링 시스템	2011-07-13	2014-02-18
트레이 이송장치	2012-02-22	2013-12-12
고온 공정용 트레이	2012-03-30	2014-02-18
고온 공정용 트레이	2012-03-31	2014-02-18
원통형 플라즈마 캐소드 장치	2012-12-17	2014-04-01
다층 반사 방지 박막을 포함하는 투명 전도성 기판 제조장치	2013-01-22	2014-12-15
플라즈마 식각 장치	2013-01-22	2014-09-19
원통형 플라즈마 캐소드 장치	2013-01-31	2015-02-11
플라즈마 화학기상 장치	2013-06-28	2016-05-02
플라즈마 화학기상 장치	2013-06-28	2015-07-15
플라즈마 CVD 장치	2013-06-28	2015-04-28
플라즈마 화학기상 장치	2013-06-28	2015-04-28
플라즈마 화학기상 장치 및 플라즈마 화학기상 장치용 전극유닛	2013-08-20	2015-07-15
플라즈마 화학기상 장치 및 플라즈마 화학기상 장치용 전극유닛	2013-08-20	2015-07-15
N2 환경 챔버의 표면처리방법 및 이에 의해 제작된 N2 환경 챔버	2013-10-14	2016-02-16
기판처리시스템의 챔버 연결어댑터	2013-10-14	2015-09-17
스토커 및 스토커용 픽업유닛	2013-10-16	2015-09-17
롤커팅가이더	2014-02-07	2016-02-16
기판 캐리어	2014-07-14	2016-05-02
배치 타입 화학기상증착 장치	2013-09-05	2015-09-17
플라즈마 화학기상 장치용 전극	2014-02-13	2015-09-17
플라즈마 화학기상 장치	2014-10-31	2016-06-15
플라즈마 화학기상 장치	2014-10-31	2016-06-15
스토커용 기판트레이	2013-11-11	2016-04-22
기재의 측면 증착이 용이한 스퍼터링 장치 및 스퍼터링 방법	2015-03-18	2017-01-24
릴리프 밸브	2015-06-05	2016-12-14
공정 온도 조절이 가능한 증착 방법	2015-08-19	2017-04-13
유도 가열을 이용한 반도체 나노선 형성 방법 및 유도가열을 이용한 반도체 나노선을 형성하기 위한 유도 가열장치	2007-12-28	2009-11-30
소자의 증착 상태 판단 방법 및 그 시스템	2015-11-18	2017-03-02
원통형 스퍼터링 캐소드 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법	2016-02-01	2016-11-17
메탈 버의 발생을 방지할 수 있는 증착 방법 및 그 증착 방법으로 코팅층이 증착된 소자	2016-01-18	2017-08-29
무게추를 갖는 이너 쉴드가 구비된 증착 챔버 장치	2016-02-04	2017-09-08
열전도 가스를 통해 샘플의 온도 조절이 가능한 증착 장치용 샘플 거치대 및 그 샘플 거치대를 갖는 증착 장치	2016-02-04	2017-10-20
대면적 기재의 성막을 위한 성막장치	2016-03-16	2017-10-20
성막 두께 조절이 가능한 성막장치	2016-03-16	2017-09-08
증착 챔버 외부로 배출될 수 있는 이너 쉴드와 무게추를 갖는 증착 챔버 장치	2016-05-18	2017-11-16
회로 임베디드 웨이퍼 및 그의 제조 방법	2016-11-04	2017-12-05
센서 탑재 웨이퍼	2016-11-04	2017-12-05
듀얼타입 센서 탑재 웨이퍼	2017-05-08	2017-12-05
증착 장치용 샘플 거치대 및 그 샘플 거치대를 갖는 증착 장치	2015-12-29	2018-01-19
증착 챔버 외부로 배출될 수 있는 무게추를 갖는 증착 챔버 장치	2016-05-18	2018-01-19
공정 온도 조절이 가능한 증착 방버	2017-01-18	2018-01-19
전원제어기능을 가지는 회로 임베디드 웨이퍼	2017-02-03	2018-03-19
복수 개의 샘플 거치대를 갖는 샘플 거치 장치 및 그 샘플 거치 장치를 갖는 증착 장치	2015-12-29	2018-04-23
태양전지용 스텐실 마스크	2017-10-20	2018-09-20

 

 

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 3  이큐셀 주요연혁

시 기	내 용
2004년 06월	(주)에스엔텍 법인 설립
2004년 12월	벤처기업 인증
2005년 01월	부설연구소 설립
2005년 02월	부품소재전문기업 지정
2006년 05월	본사 확장 이전
2008년 01월	경기도 유망중소기업 선정
2008년 04월	기술보증기금 A+ 기업 선정
2010년 04월	본사 확장 이전(김포산업단지→수원산업2단지)
2011년 04월	기술보증기금 우수 기업 선정
2011년 12월	한국벤처투자(주) 선정 Start-Up Korea 기업 선정
2013년 02월	메인비즈 인증
2014년 04월	제2공장 설치(수원산업3단지)
2014년 08월	이노비즈 인증
2015년 05월	해외지점 설치(중국심천)
2015년 06월	우수기술연구센터 지정
2015년 06월	한국거래소 코스닥 상장
2015년 12월	무역의 날 500만불 수출의 탑 수상
2016년 02월	자회사 (주)이노페이스 설립
2016년 09월	포브스아시아 200대 유망기업 선정
2017년 02월	제3공장 설치(수원산업3단지)
2017년 04월	본점소재지변경(수원산업2단지->수원산업3단지)
2019년 05월	글로벌 강소기업 지정
2019년 08월	최대주주 변경(변경후 : 주식회사 바젠)
2019년 08월	경영지배인 선임(경영지배인 : 이기근)
2019년 09월	최대주주 변경(변경후 : 에코비엠투자조합제1호)
2019년 09월	대표이사 변경(변경후 : 이정준, 이기근 각자대표)
2019년 09월	상호변경(변경후 상호 : 주식회사 에스엔텍비엠)
2019년 11월	대표이사 변경(변경후 : 이정준,강승구 각자대표)
2020년 3월	대표이사 변경(변경후 : 강승구)
2020년 3월	상호변경(변경후 상호 : 주식회사 이큐셀)
2020년 3월	대표이사 변경(변경후 : 김성규)
2020년 7월	최대주주 변경(변경후 : (주)이아이디)
2020년 8월	제2공장 매각(수원산업3단지)

 

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