에이피티씨 기업정보 (반도체 소부장 관련주)

※ 본글은 에이피티씨 사업보고서와 공개자료를 토대로 작성되었습니다.

 

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 1  에이피티씨

기업명 : 에이피티씨(주) [Adaptive Plasma Technology Corp.]
법인설립 : 2002년 2월 22일
대표자 : 최우형 
주소 : 경기도 이천시 마장면 서이천로 58-47
주업종 : 반도체 제조용 기계 제조업
사원수 : 62명
전화번호 : 031-645-1000
홈페이지 : www.iaptc.com/
기업구분 : 코스닥시장
공모가 : 9,000원

에이피티씨는 중소기업기본법 제2조에 의한 요건과 기준을 충족하여 중소기업에 해당합니다.

주요 관계회사 현황

회사명	지분율
APTC AMERICA CORP. (미국)	100%

 

 

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 2  에이피티씨 주요사업

에이피티씨는 반도체 제조공정 중 식각공정에 필요한 장비를 제조, 판매하는 기업입니다.

※ 식각공정 : 웨이퍼에 액체 또는 기체의 부식액을 이용해 불필요한 부분을 선택적으로 제거한 후 반도체 회로 패턴을 만드는 공정.

 

1. 사업 내용

• 2010년부터 300mm 웨이퍼용 폴리 식각장비를 본격적으로 개발하기 시작.
• 반도체 제조 전공정 장비인 건식 식각장비 제조업체로서 관련한 원천기술을 다수 보유. 보유한 원천기술은 다양한 플라즈마 공정장비에 적용될 수 있음.
• 플라즈마 소스는 200mm와 300mm 웨이퍼용 반도체 건식 식각장비의 원천기술로 적용되어 성능 및 가격 경쟁력을 보여주며 외산장비를 대체하고 있음.
• 주력 제품인 300mm 실리콘 식각장비는 세계적인 반도체소자 업체인 SK하이닉스(주)에 다량 납품.

 

2. 신규 사업

• 주력 양산 판매 장비인 Poly 식각장비(Leo WH)의 Upgrade 개발.
• 차기 Poly 식각장비(Leo WS) 개발.
• Metal 식각장비(Nardo-M)를 Upgrade 개발.
• 산화물 식각장비(Oxide) 개발.

 

 

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 4  에이피티씨 주요연혁

• 2004년 : 300mm 산화물 식각 시스템 공동개발 (Hynix)
• 2005년 : 해외규격 인증 획득 (CE, CEMI)
• 2006년 : ISO 9001, ISO 14001 인증 획득
• 2007년 : 300mm Oxide 식각 시스템 양산 판매 성공(Hynix)
• 2009년 : 국내최초 300mm Metal Etch System 양산 판매 성공(Hynix)
• 2010년 : LED Etcher 양산판매 성공(LGIT)
• 2010년 : 300mm Plasma Doping System 공동개발 납품(Hynix)
• 2011년 : 300mm Poly Etcher Polaris 300 JDP납품(Hynix)
• 2013년 : 300mm 플라즈마 도핑 장비 APIS 300 판매(SK Hynix)
• 2015년 : 300mm Poly Etcher Leo NK I SEMI S2-0712a 인증 획득(TUV NORD)
• 2016년 : 300mm Poly Etcher Leo NK I 양산판매 성공(SK Hynix)/2016년 10대 판매
• 2017년 : 300mm Poly Etcher Leo NK I-C 양산판매 성공(SK Hynix)/2017년 10대 판매
• 2018년 : 300mm Poly Etcher Leo NK I-C / 중국 SK하이닉스 WUXI법인 /수출 판매 성공
• 2019년 : 무역의날 수상(3천만불의 탑)
• 2020년 : 300mm Poly Etcher Leo WH 양산판매 성공(SK Hynix)
• 2020년 : 300mm Metal Etcher Nardo-M 양산판매 성공(SK Hynix)

 

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